%0 Journal Article %T Effect of low RF bias potential on AlN films obtained by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition %+ Departamento de Ingeniera de Materiales %+ Axe 2 : procédés de traitements de surface %+ Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (SPCTS) %+ FINANO %+ Departamento de Ingenieria de Materiales %A Sanchez, Gustavo %A Tristant, Pascal %A Dublanche-Tixier, Christelle %A Tetard, Florent %A Bologna, A. %< avec comité de lecture %@ 0257-8972 %J Surface and Coatings Technology %I Elsevier %P SCT-18981 %8 2013-11-05 %D 2013 %R 10.1016/j.surfcoat.2013.10 %Z Chemical Sciences/Material chemistryJournal articles %G English %L hal-00985449 %U https://unilim.hal.science/hal-00985449 %~ UNILIM %~ UNIV-PARIS13 %~ CNRS %~ SPCTS %~ SPCTS-AXE2 %~ IPAM %~ LSPM_P13 %~ INC-CNRS %~ GALILE %~ IRCER %~ IRCER-AXE2 %~ SORBONNE-PARIS-NORD %~ IMPEO %~ TEST2-HALCNRS