Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch
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Article Dans Une Revue
Applied Surface Science
Année : 2019
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https://unilim.hal.science/hal-02475685
Soumis le : lundi 25 octobre 2021-14:49:06
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15
Archivage à long terme le : mercredi 26 janvier 2022-20:51:21
Dates et versions
Licence
Identifiants
- HAL Id : hal-02475685 , version 1
- DOI : 10.1016/j.apsusc.2019.07.057
- PII : S0169-4332(19)32093-8
Citer
Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant, Christophe Chazelas. Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch. Applied Surface Science, 2019, 493, pp.703-709. ⟨10.1016/j.apsusc.2019.07.057⟩. ⟨hal-02475685⟩
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