Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma - Université de Limoges Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Techniques de l'Ingénieur Année : 2013

Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

Résumé

Pour pallier la fragilité, la complexité et le coût des pièces céramiques, depuis les années 1980, l'industrie a développé les dépôts céramiques sur des pièces métalliques de quelques millimètres à plusieurs mètres. Les dépôts minces (< quelques mm) sont réalisés soit par vaporisation physique assistée par électrons, ions, plasma, laser... soit par dépôts chimiques en phase vapeur assistés ou non par plasma. Les dépôts épais (de 50 mm à quelques mm) consistent à projeter des particules de quelques dizaines de mm par flammes ou plasmas thermiques. Quelques exemples d'applications, liées aux propriétés des dépôts obtenus sont présentés. Après une brève évaluation des coûts relatifs aux différents dépôts, les perspectives de développement sont discutées.

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00946544 , version 1 (13-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00946544 , version 1

Citer

Pierre Fauchais. Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma. Techniques de l'Ingénieur, 2013, pp.Référence N4801. ⟨hal-00946544⟩
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