Elaboration of an aluminum oxide thin film deposited by magnetron sputtering on boron nitride substrates: role of the physical and chemical properties of BN substrates - Université de Limoges
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Elaboration of an aluminum oxide thin film deposited by magnetron sputtering on boron nitride substrates: role of the physical and chemical properties of BN substrates

Domaines

Matériaux Matériaux

BEATRICE DERORY  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://unilim.hal.science/hal-02409034

Soumis le : vendredi 13 décembre 2019-11:41:06

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02409034 , version 1 (13-12-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02409034 , version 1

Citer

Mariana Trujillo Arredondo, Cédric Jaoul, Sylvain Maine, Olivier Rapaud, Pascal Tristant. Elaboration of an aluminum oxide thin film deposited by magnetron sputtering on boron nitride substrates: role of the physical and chemical properties of BN substrates. XVI ECerS Conference 2019, Jun 2019, Torino, Italy. ⟨hal-02409034⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNILIM CNRS SPCTS SPCTS-AXE2 IPAM SPCTS-AXE4 INC-CNRS IRCER IRCER-AXE2 IRCER-AXE4 IMPEO
36 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More